ЛЕКЦІЯ: ЗАХИСТМЕТАЛІВ ВІД КОРОЗІЇ. ХАРАКТЕРИСТИКА ТА ВЛАСТИВОСТІ ПОКРИТТІВ
покриття розряд синтез оксидкерамічний
Сучасний станпроблеми: Високо корозійностійкі матеріали, у виробах застосовуютьсябез додаткових захисних покриттів. Але в екстремальних умовах експлуатації(підвищені температури середовищ, радіаційний вплив) виникає необхідністьдодаткового антикорозійного захисту. На даний час найбільш поширеним єзастосування цирконієвих сплавів з оксидними плівками, які отримують врезультаті термічної обробки або анодування. Проте антикорозійні властивостіцих плівок є недостатні. Та й температурні інтервали для отримання оптимальнихмеханічних характеристик і оптимальних властивостей оксидних плівок неспівпадають.
Технологіїплазмохімічного синтезу дозволяють отримувати оксидокерамічні покриття заданоїтовщини і з високою твердістю. Роботи в цьому напрямі ведуться в Росії(Інститут сталі та сплавів, Москва; Сибірське та Далекосхідне відділення РАН;Keronit -Англія, Magoxid- ФРН), В Україні: у Львові, Донецьку, Харкові. Алепублікації щодо плазмохімічного процесу синтезу на цирконієвих сплавахвідсутні.
Всі метали та сплави при температурах вище 8000Сінтенсивно взаємодіють з киснем та не можуть бути використані без захисту відїх окислення. Проблема захисту металів та сплавів від окислення є виключноскладною та багатогранною. На сьогодні пошук захисних покривів, дослідженнямеханізму окислення сплавів з покриттями та причини їх руйнування здійснюютьсяголовним чином експериментально [1].
За характером формування захисні покриття поділяють начотири групи: 1) дифузійні; 2) покрівельні; 3) змішані дифузійно-покрівельні;4) імплантовані [1].
Більш широке застосування знайшли покриття дифузійні[105]. Такі покриття мають задовільне зчеплення з основою, їх отримання євідносно простим. Недоліком дифузійних покривів є відносно висока температураїх формування (в порівнянні з температурами експлуатації) та активна взаємодіяз основою.
Покриття покрівельного типу отримуються за нижчихтемператур ніж дифузійні, але вони мають слабке зчеплення з основою.
За складом захисного шару покриття можуть бутиметалевими, інтерметалідними, оксидними, металокерамічними. Металеві покриття,які захищають метал від окислення, не повинні утворювати з основним металомнеперервні тверді розчини, а повинні призводити до утворення обмежених твердихрозчинів. Покриття, які захищають метал від окислення, повинні бутинепроникними для кисню, так як іншому випадку окислення основи та утворенняоксидів під покриттям призведе до цього швидкого відшарування. При окисленні наповерхні покриття повинні утворюватись плівки, оксиди яких складаються зщільноспакованих іонів кисню [1].
Проникати кисень може також по порам, тріщинам.Пористість та утворення тріщин є серйозним бар’єром для застосування оксиднихпокриттів, термодинамічно стійких в кислих середовищах. Значно зменшити (абовиключити) пористість можна застосувавши відповідну технологію отриманняпокриття. Розвиток тріщин в покритті при роботі в умовах теплозмін обумовленонапруженнями, які виникають при непогодженні значень коефіцієнтів термічногорозширення покриття та основи. При стискаючих напруженнях, які перевищуютьдопустиму межу, покриття відшаровується, а при розтягуючих напруженнях в нихвиникають тріщини. Стискаючі напруження, особливо для оксидних покривів, маютьперевагу перед розтягуючими напруженнями. З метою запобігання виникненнярозтягуючих напружень на практиці намагаються підібрати покриття таким чином,щоб коефіцієнти термічного розширення покриття та основи різнились як можнаменше. Існують також і інші методи пониження величин напружень: регулюваннятовщини покриття, формування між покриттям та основою проміжного підшару зпогодженими властивостями, направленим формуванням структури покриття.
Для запобігання сколювання покриття необхідно, щобвоно мало хороше зчеплення з основою, а з іншої – при інтенсивній взаємодіїбуде проходити дифузійне розчинення покриття [1].
МЕХАНІЗМ РОСТУПОКРИТТЯ НА СТАДІЇ МІКРОПЛАЗМЕННИХ РОЗРЯДІВ.
Мікродуговеоксидування (МДО) є перспективним методом отримання керамічних покриттів. Добревивчений та математично описаний механізм утворення та пробій бар’єрної плівки,однак механізм росту покриття на стадії мікроплазменних розрядів є до кінця неясним. Це пов’язано як з відсутністю спеціальних методик вимірювання реальнихпараметрів мікроплазменних процесів, так і зі складністю точного визначення структурита складу покрить.
Компонентиелектроліту виявляються по всій товщині вирощених покриттів, тобто існуємеханізм доставки іонів та атомів речовин з електроліту в глибину покрить.Існуючі моделі росту керамічних покриттів розглядають дифузію іонів черезматеріал покриття по порам, однак з них слідує, що в напрямку, ортогональномунапрямку росту покриття, розприділення атомів має бути рівномірним. В той жечас з експериментів слідує, що розприділення концентрації елементів по площиніпокриття є нерівномірним.
Дляописання росту МДО — покрить можна застосовувати загальні рівняння масопереносуі рівняння, які описують ріст композиційних електрохімічних покрить (КЕП),однак при цьому необхідно враховувати більш складну природу мікроплазменнихпроцесів та ізоляційні властивості нанесених покрить.
Вданій роботі модель росту МДО — покрить доповнена врахуванням особливостейвключення частинок їх розчину.
МОДЕЛІ РОСТУПОКРИТТЯ
Післяформування на поверхні металу бар’єрного шару напруженість електричного поля награниці розділу починає збільшуватись і при перевищені значення діелектричноїміцності плівки проходить її пробій. При цьому утворюється іскровий розрядлокальною електронною температурою до 100000C, тиск в якому досягає1800 атм. Частина металу з області розряду викидається на поверхню та взаємодієз електролітом.
ОСАДЖЕННЯЧАСТИНОК З ПРИЕЛЕКТРОДНОГО ШАРУ.
Припроходженні електричного струму на поверхні зразка (анода) проходить виділенняводню по реакції:
2H2O+2e/>H2+2OH, (1)
внаслідокчого проходить підлужування електроліту в приелектродному шарі. Змінакислотності електроліту призводить до утворення в приелектродному шарі частинокосаду з металу, який викинутий в розчин з області дугового розряду. Привзаємодії приелектродного шару з водою утворюються колоїдні частинки беміту абогідроксиду:
Zr+2H2O/>ZrOOH+1/2H2, (2)
Zr+2+2OH-/>Zr(OH)2, (3)
Якімають визначений заряд. Слід відмітити, що насправді біля та на поверхні анодуможливе протікання і багатьох інших реакцій, реакції (1)-(3) виділені якнайхарактерніші і, які визначають ріст покриття.
Отже,мікроплазменний режим росту оксидних покриттів веде за собою утворення вприелектродній зоні електроліту оксидних з’єднань Zr та інших присутніх в ньомухімічних елементів. Перенос частинок, які утворились в приелектродній ділянці,виникає по лініях максимальної напруженості електричного поля, які пов’язані зпорами та тріщинами. Дисперсні частинки попадають в внутрішню область пор татріщин, де встановлюються в покриття під дією плазменного розряду, що викликаєнерівномірність покриття за складом.
Появатріщин знімає частину внутрішніх механічних напружень в покритті. Зарощуваннятріщин є можливим за рахунок електрохімічного окислення цирконію, при цьомуформується щільне стабільне покриття з низьким рівнем внутрішніх напружень.
Такимчином, для отримання достатньо товстих та якісних покриттів необхіднорегулювати процеси утворення пор та тріщин в покритті та створювати умови дляелектрохімічного зарощування дефектів на кінцевій стадії процесу роступокриття.
СИНТЕЗОКСИДОКЕРАМІЧНИХ ПОКРИТТІВ
Утворенняоксидокерамічних покриттів на вентильних металах в системі “метал – електроліт”під дією зовнішнього електричного поля складається з кількох етапів. Першийетап – формування первинної оксидної плівки за електрохімічним механізмом.Особливістю анодної поведінки вентильних металів є відсутність активної ділянкирозчинення, що зумовлено їх електронною будовою. В системах “метал –електроліт”вони віддають d-електрони та перетворюються в іони з перебудованими d-рівнями.Ці іони вступають у реакції з розчиненим в електроліті киснем, радикалами OHабо водою, утворюючи поверхневі оксидні плівки. Анодні оксидні плівки є анодніта безпористі, мають іонну провідність і високий електричний опір. Їхкласифікують як n–напівпровідники з широкою забороненою зоною. Черезпасивні шари на вентильних металах електрони не переносяться. Єдиною реакцієюна аноді під напругою до 100 В є анодний ріст оксиду. При цьому перенапруга утворенняоксиду менша від напруги розкладу електроліту. Коли вона досягається, проходитьінжекція електронів в оксидний шар і на аноді починає виділятися кисень. Такнастає другий етап формування іскрового розрядного каналу в системі “метал–оксид –електроліт”. Залежно від матеріалу електроду та природи міжелектродногопроміжку механізми пробою та параметри розрядного каналу можуть бути різні. Увипадку реалізації іскрового розряду в системі “метал –оксид –електроліт” піддією постійного електричного поля анодом служить метал, а катодом – електроліт.Міжелектродний проміжок складається з оксиду та подвійного електричного шару награниці оксид – електроліт. Основний спад потенціалу припадає на оксиднийпрошарок, у якому напруженість електричного поля висока. Останній етапхарактеризується ростом покриття, при якому відбуваються поліморфніперетворення.
Вже принапруженості електричного поля порядку 105В/м високо енергетичніелектрони можуть спричиняти гальванолюмінесценцію оксидів. Щоби під дієюелектричного поля електрони отримали необхідне для пробою широкозонного оксидуприскорення, їх енергія повинна бути дещо вищою 3Еg/2 (Еg-шириназабороненої зони). Ці іони мають достатню для іонізації атомів енергію,внаслідок чого появляються нові електрони. Коли коефіцієнт розмноження більшийвід одиниці, виникає електронна лавина. Іонізовані атоми, які залишаються залавиною, створюють практично нерухомий об’ємний заряд, котрий гальмуєелектрони. Оскільки, як уже згадувалось, спад потенціалу локалізуєтьсяпереважно в оксиді, а оксиди вентильних металів проявляють властивостіширокозонних напівпровідників n-типу, для визначення ширини областіпросторового заряду застосуємо рівняння Шоткі />/>=(2/>0/>/>U/eNd)1/2,де />/>-ширина області; />0-діелекричнапостійна; />-діелекрична постійнаоксиду; Nd –концентрація донорних рівнів у оксиді; e –заряделектрона; /> U – спад напруги.
Виходячи з того,що при пробої ширина області просторового заряду повинна бути співмірною, хоч іменшою за товщину оксидної плівки, можна знайти необхідний для пробою спадпотенціалу у плівці.
Напругу пробоювизначимо за формулою Uв=(Е//>)ln(/>), Е//>-середня довжина пробігуелектрона в одиницях напруг; />-відношеннягустини електронного та іонного струмів; />,-коефіцієнти, які зв’язують густини іонного та електронного струмів зі струмомутворення оксиду. Відомі розрахунки />Uта Uв для різних металів та їх оксидів вказують на можливістьвикористання наведених формул для приблизної оцінки цих параметрів.
Електричний пробій у системі “метал –оксид–електроліт” є комплексом різних фізичних явищ (електричних, механічних, оптичних,теплових). У місці порушення цілісної оксидної плівки формується розряднийканал. Теплові поля викликають різноманітні фізико–хімічні тахіміко-температурні процеси в об’ємі плівки та в пограничній ділянціелектроліту. Здійснено спробу аналізу цих процесів на основі моделі парогазовоїбульбашки. Під парогазовою бульбашкою розуміють область, у якій речовиназнаходиться у парогазовому або плазмовому стані і яка прилягає до іскровогоканалу з боку електроліту.
На підставіосцилограм напруги U(/>) таструму I(/>) виділяютьчотири ділянки: звичайного анодування при малих спадах напруги; формування розрядногоканалу; утворення газопарової бульбашки; гасіння іскрового каналу та руйнуваннягазопарової бульбашки. Запропоновано відповідну схему розподілу речовини тазаряду в парогазовій бульбашці. У цій області може існувати певна кількістьводню. Ряд досліджень також вказує на “неповноцінність” моделі парогазопаровоїбульбашки для пояснення процесів, що відбуваються в іскрових розрядах системи“метал-оксид-електроліт”.
Згідно з теорієюіскрового розряду, в місцях електродів, на які опирається канал, проходитьшвидке плавлення матеріалу і вибухоподібний викид його парів. У центральнійчастині матеріал частково іонізується та майже повністю атомізується. Напериферійних ділянках можуть існувати недисоційовані молекули або радикали.
Густина плазми підчас іскрового розряду у системі “метал-вода-метал” знаходиться на рівні 1026м-3та змінюється несуттєво, бо зменшення густини частинок у плазмовому згусткукомпенсується поступанням нових частинок внаслідок випаровування води зі стінокканалу. Енергоопір каналу на початковій стадії розряду зменшується коштомзбільшення електропровідності плазми. Наприкінці розряду опір каналу зростає,незважаючи на його розширення через охолодження плазми та спричинену цимдеіонізацію.
Розширення каналупродовжується й після виділення енергії під дією підвищеного тиску. Напіслязарядовій стадії канал перетворюється у парогазову бульбашку, якарозширюється, доки кінетична енергія потоку не перейде в потенціальну. Прицьому тиск у бульбашці стає значно меншим гідростатично. Потенціальна енергіязнову переходить у кінетичну, врешті бульбашка захлопується зі зростанням тискув середині.
Внаслідокіскрового пробою в системі “метал-оксид-електроліт” уздовж розрядного каналувідбувається масоперенос речовини електродів, а саме: з аноду поступає метал, аз катоду-компоненти електроліту. В міру переміщення речовини до центральноїзони розрядного каналу відбувається її дисоціація, іонізація та розподіл утемпературному полі каналу залежно від кінетичної енергії. У центральній зонірозрядного каналу протягом певного часу існує згусток рівноважноїквазіідеальної плазми з температурою 7000...10 000 К. у згустку речовиначастково іонізована (густина електронів порядку 1022м-3,ступінь іонізації 10-5), а решта перебуває в атомарному стані. Якщоанод цирконієвий, у цій зоні можуть проходити хімічні реакції:
Zr+O/>ZrO, (1) 2Zr+O/>Zr2O, (2) Zr+2O/>ZrO2, (3)
але з дуже малимвиходом оксидів ZrO, Zr2O, ZrO2. Наступна зона розрядногоканалу обмежується ізотермою Т=5400К, тобто максимальною температурою,за якої ще можливий ZrO2, у рідкому стані. Тут повинні інтенсивнопротікати реакції (1)-(3), а також вірогідні реакції:
Zr+OH/>ZrO+1/2H2, (4) 2Zr+OH/>Zr2O+1/2H2 (5)
Третя зонарозрядного каналу визначається ізотермами існування ZrO2 у рідкомустані. У ній можливі реакції:
Zr+O2/>ZO2, (6) ZrO+O/>ZrO2, (7) Zr+2O/> ZrO (8)
У третій зоніпродукти синтезу є і в газоподібному, і в рідкому стані. Тут речовини йконденсуються. Реакції (1)-(5) та (6)-(8) розподілені в часі. першівідбуваються в період розвитку розрядного каналу та встановлення в ньомумаксимальної температури плазми з поглинанням при цьому тепла, тобто зменшеннямшвидкості наростання температури в каналі. Реакції (6)-(8) протікають у другійстадії розвитку розрядного каналу, коли температура в ньому спадає, і, будучиекзотермічними, сповільнюють охолодження речовини. Розрядний канал з бокуметалевого анода та оксидного шару обмежується твердою речовиною, яку умовноможна означити як четверту зону. Саме у цій зоні температурний перепад від 2327К до 300 К забезпечує поліморфні перетворення оксидних фаз. З боку електролітуза час існування розрядного каналу формується парогазова бульбашка, температурав якій змінюється від /> 2000 К ухвостовій частині каналу до 300 К на межі фазового переходу газова фаза-рідина.У цій, п’ятій зоні розрядного каналу відбувається дисоціація води з утворенняматомарного кисню та водню. Звідси суміш, яка складається з кисню, водню, радикалівOH та інших компонентів електроліту попадає в іскровий канал. Протягом часуіснування газової бульбашки, а він більший ніж існування розрядного каналу,подвійний електричний шар на границі оксид-електроліт руйнується, тобтоприпиняється електрохімічне розчинення покриття. На підставі викладеногозапропоновано модель розрядного каналу в процесі синтезу оксидокерамічногопокриття в системі “метал-електроліт” під дією зовнішнього електричного поля.
Канал пробою,особливо при малих товщинах покриття, як точкове джерело теплоти, щорозширюється в радіальному напрямі, в математичному плані є сферична модельрозряду. При цьому оксид по фронту розширення розрядного каналу проплавлюєтьсяна деяку глибину та стискається ударною хвилею. Якщо довжина розрядного каналубільша за його радіус (наприклад, при великих товщинах покриття), для меншоїхарактерної довжини ударної хвилі параметри розрядного каналу можна описатимоделлю короткого циліндра.
Виходячи ззапропонованої моделі виділимо чотири основні етапи формування оксидокерамічнихпокриттів на вентильних металах: утворення на доіскровій стадії первинноїоксидної плівки і поява плазмового згустку в розрядному каналі; газофазніхімічні реакції утворення проміжних і кінцевого продукту; конденсація таполіморфні перетворення оксидних фаз. Для кожного з цих етапів характернийвласний механізм реалізації.
ПЕРЕВАГА МЕТОДУ ЕЛЕКТРОДУГОВОГООКСИДУВАННЯ ПОКРИТТІВ.
Метод електролітичного окислення тонких плівокцирконію дозволяє використовувати високі адгезійні властивості металу допідкладок з різних матеріалів в поєднанні з іншими перевагами процесуелектрохімічного анодування. Характерною особливістю цього процесу є високийрівень контролю електричних параметрів (струму або напруги), властивостейелектроліту, тривалості анодування. Все це призводить до можливості отриманняплівок, однорідних за структурою та фізичним властивостям.
Перевагою методуелектродугового оксидування є висока адгезійна міцність синтезованих покриттівв порівнянні з іншими методами нанесення покрить. Наприклад, для покрить,нанесених методом напилення величина механічного зчеплення залежить відморфології поверхні, тобто конфігурації, розміру та густини виступів і впадин.Однак, як показують дослідження, величина сил механічного зчеплення невелика іскладає не більше 3-5 МПа. Тоді як при електродуговому оксидуванні покриттяутворюється за рахунок хімічної взаємодії електроліту з металом (Zr), тобтовідбувається так би мовити нарощування оксидокерамічного покриття, товщинаякого сягає близько 100 мкм. Причому покриття приблизно такої ж товщининарощується і всередині металу. Це і є основною перевагою такого методунанесення покрить.
ФАЗОВИЙ СКЛАДОКСИДОКЕРАМІЧНИХ ПОКРИВІВ
Фазовийсклад оксидокерамічних покривів визначається маркою сплаву на якому вінформується і хімічним складом та концентрацією електроліту. На алюмінії і йогосплавах в лужних базових електролітах утворюються, в основному, a, g, d -фази Al2O3 [165, 130, 166, 167,168]. На сплавах з високим вмістом кремнію або в кремнійвмісних електролітахможливе утворення шпінелей [165, 130], міліту [166, 167], а в електролітах звисоким вмістом рідкого скла поверхневий шар містить до 95% SiO2[169]. В покривах на складнолегованих сплавах спостерігається незначна доляінтерметалідних сполук [166, 170]. На сплавах легованих літієм і велектролітах, що містять KF, можливо отримати ділянки покриву з твердістювищою, ніж у природного корунду [165, 130]. Відносний вміст різних фаз Al2O3залежить від хімічного складу сплаву [130, 167], вольт-амперних режимів процесу[168, 170] і змінюється по товщині покриву [165, 171]. Процентний вміст a-Al2O3 визначає твердість покриву, його трибологічні характеристики і між ними є добра кореляція [166].
Наявністьв електролітах фосфатів, ванадатів, сульфатів і т.п. може приводити доформування в покривах складних оксидних фаз, комплексних сполук, втілениханіонних або катіонних груп, колоїдних частинок [172, 168, 173, 174, 175]. Вкислих електролітах отримуються покриви на основі h-Al2O3з розміром зерен ~100 нм [177]. Фазовий складоксидокерамічних покривів і деякі їхні властивості на титанових сплавахдосліджені в [172, 173, 174, 175, 176], на ніобієвих сплавах в [178], намагнієвих сплавах в [146, 179, 180], на цирконієвих в [181, 182].
ВЛАСТИВОСТІ ТАЗАСТОСУВАННЯ ОКСИДОКЕРАМІЧНИХ ПОКРИТТІВ.
Розвитокмашинобудування, приладобудування, електронної техніки неможливий безвикористання матеріалів та технологій, що підвищують надійність, довговічністьмашин та механізмів, збільшують їх експлуатаційні і міжремонтні часи, зменшуютьвартість ремонту та підвищують безпеку роботи. Одним з методів вирішення цихзавдань є створення та використання матеріалів з високими антифрикційними,зносо- та корозійностійкими, жароміцними покриттями. Вищезгаданимивластивостями у повній мірі володіють оксидокерамічні покриття на вентильнихметалах Al, Zr, Ti, Ta, Zn, Fe, Ge, Si та інших [5].
Особливістюоксидної плівки на вентильних металах є її уніполярна провідність в контакті зелектролітом. При анодній поляризації на таких металах провідність оксидногошару зменшується в 103…105 разів порівняно з катоднимвключенням. Покриття формуються при накладанні зовнішнього електричного поля досистеми вентильний метал – електроліт на установці, що складається з джереластруму та ванни з електролітом у якій знаходиться деталь. Важливу роль вформуванні без пористого, пористого, аморфного чи кристалічного оксидного шарувідіграють електроліти та режими у яких формуються ці покриття.
Найширшезастосовуються на практиці та найкраще висвітлені в літературі способиформування покриттів на сплавах алюмінію.
Широкопоширений процес анодування (напруги порядку 100 V, струми 0,1–1 A/m2)для синтезу на металах безпористих, корозійностійких структур, що мають високуадгезією до основи, високу твердість (порівняно з металом основи), високудіелектричну проникність та максимальну товщину в кілька десятків мікрометрів.Використовують їх як підложки для кращої адгезії фарби, як діелектрики вконденсаторних системах та як декоративні захисні покриття на різних виробах[5].
Припідвищенні потенціалу системи метал – електроліт, напруженість електричногополя зростає та на поверхні металу виникають іскрові розряди. У нихсинтезується покриття з високою адгезією до основи, високою мікротвердістю, щодає можливість формування рівномірних покриттів на зовнішніх та внутрішніхповерхнях, на поверхнях зі складним профілем, високі діелектричні властивості,високу циклічну теплостійкість, стійкість [5] від високотемпературногокорозійного зношування.
Прикладомуспішного застосування матеріалів з такими властивостями є захист днищ поршнівдвигунів внутрішнього згоряння від дії високотемпературних теплових потоків таметод зниження градієнта температури між різними частинами поршня [5].
Технологіясинтезу оксидокерамічних покрить активно розвивається у ФМІ НАН України.Розроблені процеси формування оксидних покрить на алюмінієвих, магнієвих тацирконієвих сплавах. Максимальна мікротвердість на алюмінієвих сплавах сягає2900…3200 кГ / мм2, на магнієвих сплавах960–1100 кГ / мм2, на цирконієвих 800–1000кГ / мм2. Розроблені умови технологічних процесів утворенняробочих поверхонь паперо – протяжних механізмів, ізолюючих клинів фіксаторівобмоток турбогенераторів, плунжерних гільз перекачуючих насосів, гільз поршніввнутрішнього згоряння (рис. 1), прошарки на алюмінієвих та магнієвих виробахперед фарбуванням та ін. [5]. На магнієвих сплавах для формування зносостійкихпокриттів на поверхнях ниткопротяжних механізмів текстильної промисловості.Формування оксидокерамічних покриттів у кислих електролітах дає можливістьстворювати товсті пористі плівки. Пори в яких є наскрізними, мають складнурозгалужену будову і діаметр у розмірі кількох мікрометрів. Вони знайшливикористання як фільтри. Роботи в цьому напрямі ведуться в пошуках режимівсинтезу та складу електролітів у яких діаметр пор буде мати найменший розкид танаперед заданий розмір. Вищезгадані технології швидко та активно розвиваються іпрогресують у напрямку зменшення енергетичних та матеріальних затрат тавикористання не шкідливої сировини.
/>
Рис. 1 — Деталі зоксидокерамічними покриттями
МОЖЛИВОСТІЗАСТОСУВАННЯ ПЛАЗМОВОЇ ТЕХНОЛОГІЇ В МЕДИЦИНІ.
Розробленопортативну плазмову установку, за допомогою якої на поверхню зубного каркасананосять покриття з різних стоматологічних матеріалів. Показано, що створенняретенційних шарів на поверхні зубного протезу збільшує міцність зчепленнялицювального покриття з основою.
Технологіяплазмового напилення розробляється і застосовується в ортопедичній стоматологіїпорівняно недавно- в останні 7-10 років. Застосування плазмових покриттів врізних ортопедичних конструкціях спрямоване на поліпшення ортопедичноголікування в результаті удосконалення технології протезування і підвищенняексплуатаційних характеристик протезів і імплантатів.
За кордоном є рядрозробок щодо плазмового напилювання в ортопедичній стоматології. Наприклад,плазмове напилювання на золотовмісні сплави покриттів з оксидів Al, In і Zrсприяло збільшенню міцності зчеплення металокерамічних конструкцій.