XXXIV Международная (Звенигородская) конференция по физике плазмы и УТС, 12 – 16 февраля 2007 г. рентгеноспектральный анализ пленок оксида титана, полученных методом магнетронного распыления А.Р. Галяутдинов, Р.Т. Галяутдинов, Н.Ф. КашаповКазанский государственный технологический университет, г. Казань, e-mail: toureech@mail.ru Низкотемпературная плазма находит применение для получения функциональных покрытий с регулируемыми характеристиками. Исследование состава и структуры тонких пленок оксида титана, полученных при различных условиях позволяет определить модель строения и на ее основе аналитически рассчитать комплексный показатель преломления. В оптике тонкопленочных покрытий актуально получение пленок с заданным комплексным показателем преломления [1]. В работе методом магнетронного распыления нанесены тонкие пленки оксида титана и проведен их рентгеноспектральный анализ. Методом магнетронного распыления получены покрытия оксида титана на кварцевых подложках марки КВ [2]. Достигнуто регулирование показателя поглощения изменением соотношения аргона и кислорода в вакуумной камере в процессе распыления титановой мишени. Состав и топография поверхности наносимых покрытий изучена на сканирующем электронном микроскопе Phillips XL30 ESEM TMP с применением трех детекторов: GSE – твердотельного низковакуумного детектора, SE - детектора вторичных электронов и EDS - энергодисперсионного детектора. Морфология поверхности пленки оксида титана изучена при увеличении в 50000 раз. В пленке не наблюдаются вкрапления и кристаллиты. В спектре характеристического излучения подложки примесей не выявлено. Рентгеноспектральные исследования пленок оксида титана проведены при низком вакууме, без напыления проводящего слоя. При напряжении на катоде электронной пушки в 15 и 10 кВ регистрируется характеристическое излучение от пяти элементов: титана Kβ = 4,9 кэВ, кα = 4,5 кэВ и lβ = 0,4кэВ, кремния кα = 1,7 кэВ, алюминия кα = 1,5 кэВ, кислорода кα = 0,5 кэВ, углерода кα = 0,3 кэВ. При 5 кВ интенсивность кα линии кремния уменьшается практически до нуля, что обусловлено уменьшением глубины генерации рентгеновского излучения до толщины пленки, составляющей порядка 200 нм. Отсутствие генерации К-серии атомов титана при 5 кВ в спектре объясняется низким уровнем энергии электронов. В спектре присутствует lβ линия титана, поскольку энергия фотонов lβ линии поглощения низка и составляет 0,4 кэВ. Таким образом, в состав пленок оксида титана, полученных методом магнетронного распыления, входят атомы титана и кислорода, и незначительная примесь атомов алюминия и углерода. Анализ топографии поверхности пленок оксида титана установил их однородность по составу и структуре. Работа выполнялась при финансовой поддержке РФФИ проект № 04-02-9750200/4 и ИВФ РТ проект № 8Г по теме «Разработка технологии плазменного нанесения неоднородных оптических покрытий многоцелевого назначения».Литература.Галяутднов Р.Т., Лучкин Г.С., Кашапов Н.Ф., Тезисы докладов. ХХХ111 Звенигородская конференция по физике плазмы и УТС. Звенигород, 2006 г., с. 310.Галяутднов А.Р., Галяутдинов Р.Т, Кашапов Н.Ф. Материалы конференции. «Вакуумная наука и техника». Москва, 2006 г., с. 335-337.