Биполярным транзистором называется полупроводниковый прибор, имеющий два взаимодействующих между собой рп перехода. Работа транзистора основана на управлении токами электронов в зависимости от приложенных к его переходам напряжений.
В биполярном транзисторе носителями заряда служат как электроны, так и дырки. В нем имеются два близко расположенных и включенных навстречу друг другу перехода, которые образуют тем самым три отдельных слоя p-n-p- либо n-p-n-структуры. В p-n-p-транзисторе дырки инжектируются через эмиттерный переход, смещенный в прямом направлении, и собираются на коллекторном переходе, смещенном в обратном направлении. Количество инжектируемых и собираемых носителей заряда можно менять путем изменения малого тока, подаваемого в область базы.
Переход эмиттер-база смещен в прямом направлении, при этом происходит инжекция носителей заряда (дырок) из эмиттера в базу. Обратный процесс инжекции электронов из базы в эмиттер носит ограниченный характер т.к. pэ>>nб. Поэтому эмиттерный ток является диффузионным, вследствие сильно разной концентрации дырок и электронов.
Большая часть дырок достигает коллекторного перехода и подхватывается полем обратно смещёного коллекторного перехода. А многие носители, инжектированные в пассивную область базы, не попадают на эмиттер, а рекомбинируются в слое базы и на поверхности.
Рассмотрим эквивалентную схему биполярного транзистора.
Данная Т-образная схема включения с общей базой в максимальной степени отражает электрофизические свойства транзисторной структуры и не является усилителем тока.
Собственная концентрация носителей заряда ni=pi=24·1013см-3=2,4·1019м-3
Коэффициент диффузии Дn=93·1013см-3=9,3·1019м-3
Коэффициент диффузии Дp=44см2/С=4,4·10-3 м2/С
Концентрации основных носителей заряда в транзисторной структуре: эмиттер – коллектор pp=5·1016см-3=5·1022м-3 база nn=1015см-3=1021м-3
Подвижность носителей заряда mn=3800 м2/В*С
Подвижность носителей заряда mр=1800 м2/В*С
Время жизни носителей заряда tn=10-4с
Время жизни носителей заряда tp=10-5с
Относительная диэлектрическая проницаемость e=16
Собственное цельное сопротивлениеrI = 50 ом·см=50·10-3 ом·м
Диэлектрическая проницаемость вакууме e0=8,95·10-12 ф/м
Заряд электрона q=1,6*·10-19 К.
n×p=ni2=pi2
pn=
ni2
=
2,42·1038
=
5,76·1017
nn
1021
np=
ni2
=
2,42·1038
=
1,15·1016
pp
5·1022
sn =q·n n·mn=1,6·10-19·10213800=6,08·105
sр =q·p р·mp=1,6·10-195·10221800=14,4·106
Ln = (Dn ·tn)1/2 =(9,3·10-3·10-4)1/2=(93·10-8)1/2=9·10-4
Lp = (Dp ·tp)1/2=(4,4·10-3·10-5)1/2=(4,4·10-8)1/2=2·10-4
S = (0,01¸0,05)
S = 0,02мм=2·10-8м
IКС=IКС=S·(
q ·Dp ·pn
+
q ·Dn ·np
) = 2·10-8·(
1,6·10-19·4,4·10-35,76·1017
+
Lp
Ln
2·10-4
+
1,6·10-19·9,3·10-31,15·1016
) = 4,1·10-6
9·10-4
jт=0,025 В;
UЭБ
0,1
0,12
0,14
0,16
0,18
0,2
0,22
IЭ
0,00022
0,00049
0,00111
0,00247
0,00549
0,01223
0,02723
Смещение ВАХ влево при Uк ν – коэффициент инжекции, характеризует долю полезной состовляющей в общем токе.
χ – коэффициент переноса, показывающий какая часть инжекцированных в базу носителей заряда доходит до коллекторного перехода
α = ν · χ = 0,9958·0,995=0,99
α – коэффициент передачи по току – один из основных параметров, который возрастает с уменьшением ширины базы, при сравнительно большой ширине базы определяющую роль играет коэффициент переноса, а при достаточно малой – коэффициент инжекции.
rэ – дифференциальное сопротивление эмиттерного перехода обусловлено эффектом Эрли обратно пропорционально постоянной составляющей тока.
IЭ
4,1·10-6
0,005
0,01
0,015
0,02
rэ
6089,7
5
2,5
1,66667
1,25
rк – диффузионное сопротивление коллекторного перехода определяет нелинейность выходных ВАХ.
Uк
1
4
7
10
Rк
7,3·1010
15·1011
19·1011
23·1011
mэк – коэфициент обратной связи по напряжению характеризует эффект модуляции толщины базы
Uк
1
4
7
10
mэк
-0,00084
-0,00042
-0,00032
-0,00026
rб - сопротивление тела базы, то есть омическое сопротивление области базы вне поля объёмного зарада.
Uк
1
4
7
10
Iэ=Iо
0,000008
0,000008
0,000008
0,000008
Iэ=0,005
0,004958
0,004958
0,004958
0,004958
Iэ=0,01
0,009912
0,009912
0,009912
0,009912
Iэ=0,015
0,014866
0,014866
0,014866
0,014866
Iэ=0,02
0,019820
0,019820
0,019820
0,019820
Семейство выходных или коллекторных ВАХ является отражением ВАХ обратно смещённого рп перехода, но с учётом влияния эмиттерного перехода
Смещение выходных статических характеристик вверх в выбранной системе координат при увеличении тока эмиттера соответствует принципу действия транзистора.
Обметим некоторые особенности характеристик транзистора. Ток коллектора почти не зависит от напряжения на коллекторе. Напряжение на базе не зависит от напряжения на коллекторе и слабо зависит от тока базы. Из сказанного следует, что для малых приращений тока базы можно заменить источником тока коллектора, управляемого током базы. При этом, если пренебречь падением напряжения между базой и эмиттером, то можно считать этот переход коротким замыканием.